Вакуумные условия
Свойства пленок, получаемых в вакууме, в сильной степени зависят от вакуумных условий. Например, трудность получения тонких танталовых пленок со сверхпроводящими свойствами, близкими к свойствам массивных образцов, связана с тем, что характеристики таких пленок крайне чувствительны к присутствию обычных остаточных газов — азота, водорода и кислорода. Присутствие лишь 0,01 ат.% азота сдвигает критическую температуру перехода на 0,007°. Принято считать, что присутствие даже 0,001 % кислорода в магнитных пленках может быть причиной появления одноосной анизотропии. Так как скорость реакции газа с пленкой в процессе напыления пропорциональна парциальному давлению газа в системе, то следует ожидать, что пленки, осаждаемые в более высоком вакууме, будут содержать меньшее количество газа при сохранении прежними всех остальных параметров. Поэтому для получения пленок высокой чистоты в вакуумных системах для напыления пленок стремятся создавать все более высокий (10_6— 10-9 мм рт. ст.) или даже сверхвысокий вакуум (Ю-9 ммрт.ст. и выше). Переход к более низким давлениям был ускорен появившимися в последние годы коммерческими сверхвысоковакуумными металлическими системами для ядерных и космических исследований. Если в 1958 г. существовали высоковакуумные камеры малого размера, сделанные обычно из стекла и применимые лишь для ограниченного круга исследований, то уже в 1962 г. можно было приобрести выпускаемые несколькими промышленными фирмами вакуумные установки с большими колоколообразными камерами весьма общего назначения.
