Требования к вакуумным системам для получения тонких пленок

Вакуумные системы, предназначенные для получения тонких пленок, должны удовлетворять ряду специальных требований, указанных ниже.

Высокая скорость откачки во время напыле­ния пленок. Даже после интенсивного обезгаживания в системе в процессе напыления могут выделяться значительные количества газов, источником которых являются испаритель или нагретые детали арматуры. Если присутствие этих газов вредно отражается на свойствах пленок, необходимо обеспечить доста­точную скорость откачки для поддержания вакуума.

Кратковременность цикла. Очень часто важным требованием является быстрота смены вакуумных циклов.

Легкий доступ к вакуумной камере. Поскольку эксплуатация вакуумных испарительных установок требует ча­стой загрузки испарителей и смены подложек, необходимо обе­спечить легкий доступ к вакуумной камере.

Механические и электрические вводы. Боль­шинство испарительных установок требует многих вводов — для нагрева подложек, питания испарителей, перемещения масок и заслонок и пр. В сверхвысоковакуумных системах эти вводы должны быть прогреваемыми.

Рабочие температуры этих катодов составляют около 1550 и 1200° К соот­ветственно (по сравнению с ~2000° К для вольфрама). Эти ма­териалы используются в сверхвысоковакуумных системах после обезгаживания при температурах, превышающих нормальные рабочие температуры, причем выдержка в атмосферных усло­виях не снижает их эмиссионной способности. Оксидные катоды обычно применяются только в отпаянных камерах, так как пребывание в атмосфере ухуд­шает их эмиссионные параметры. Отравление катода можно несколько уменьшить, если поддерживать его температуру при выдержке на воздухе вблизи 100°С.